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    溢格蝕刻加工

    廣州蝕刻報價(jià)，廣州蝕刻加工廠(chǎng)家

    文章來(lái)源:未知時(shí)間:2019-09-05 點(diǎn)擊:
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    金屬蝕刻的原理
    金屬在蝕刻液中的燭刻過(guò)程，首先是在金屬零件表面發(fā)生晶粒的溶解作用;其次在晶
    界上也發(fā)生溶解作用，一般來(lái)講，晶界是以不同于晶粒的溶解速度發(fā)生溶解作用的。
    在大多數金屬和合金的多晶體結構中，各個(gè)晶體幾乎都能采取原子晶格的任何取向。
    而晶粒的不同取向、晶粒密度的大小及雜質(zhì)都會(huì )和周?chē)哪阁w金屬形成微觀(guān)或超微觀(guān)原
    電池。所以，對于金屬在蝕刻液中來(lái)講，一方面這些原電池的存在，使金屬表面存在著(zhù)電
    位差，電位正的地方得到暫時(shí)的保護，電位負的地方被優(yōu)燭刻。另一方面在零件表面具有
    變化著(zhù)的原子間距，而且原子間距較寬的地方溶解速度迅速，一直到顯示出不平整的表面
    為止。然后,溶解作用將以幾乎是恒定的速度切削緊密堆積的原子層，表面的幾何形狀也
    隨著(zhù)晶粒的溶解而繼續不斷地變化。晶界上的燭刻也將進(jìn)一步影響零件表面。在晶界上
    晶格的畸變和富集的雜質(zhì)，常常導致更加快速的蝕刻作用，從而可能會(huì )使整個(gè)晶粒受到凹
    坑狀的燭刻。晶粒尺寸越小，經(jīng)蝕刻后的表面粗糙度就越低，這也可以從實(shí)際生產(chǎn)中得到
    證實(shí)。在生產(chǎn)中往往都是材料越均勻致密其表面越平滑。

    下面以Fe在稀HC1中的燭刻為例來(lái)說(shuō)明。將鐵片浸人除氧的稀HC1中，可以觀(guān)察
    到Fe與HC1之間發(fā)生激烈的化學(xué)反應，其反應式為：
    Fe +2HC1 ==FeCl3 +H2 t (4-6)    廣州蝕刻報價(jià)，廣州蝕刻加工廠(chǎng)家
    隨著(zhù)反應的不斷進(jìn)行，鐵片被腐蝕溶解，同時(shí)在鐵片表面有大量氫氣泡生成,按照電
    化學(xué)腐燭理化，可將上述反應分解為兩個(gè)不同的電極反應：
    陽(yáng)極反應:Fe — Fe2+ +2e (4-7)
    陰極反應：2H+ +2e — H2 f (4-8)

    由于鐵片表面存在電化學(xué)不均勻性，其表面布滿(mǎn)了無(wú)數微陽(yáng)極和微陰極，在稀HC1
    中就構成大量的微觀(guān)或亞微觀(guān)腐蝕電池。尤其是亞微觀(guān)腐燭電池的陰、陽(yáng)極十分微小,在
    顯微鏡下也難以區分。單個(gè)電池的有效作用區域很小，陰、陽(yáng)極之間幾乎不存在歐姆壓
    降，整個(gè)金屬表面可以認為是等電勢的。這些微陰極與微陽(yáng)極的位置在蝕刻過(guò)程中不斷
    地變換，導致金屬以某一平均速度發(fā)生均勻蝕刻。因此，在發(fā)生這種均勻蝕刻的電化學(xué)腐
    燭時(shí)，整個(gè)鐵片表面可有條件地看做同時(shí)工作著(zhù)的陽(yáng)極和陰極。這種電化學(xué)蝕刻，在這里
    可以根據加工需要創(chuàng )造一些條件，使蝕刻按照設計的要求進(jìn)行。如果是要進(jìn)行紋理燭刻，
    就得使這種微觀(guān)局部蝕刻現象加強。比如控制合適的酸度或堿度，并添加一些旨在改變
    蝕刻行為的第二物質(zhì)，使被蝕刻的表面呈現出所需要的粗糙化表面效果。如果是進(jìn)行化
    學(xué)銳切加工，同樣要創(chuàng )造條件，增強蝕刻液的蝕刻能力，使蝕刻更趨于均勻化，以得到表面
    平滑光潔的效果。
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